|
|
Wet Etch Cleaner
半导体湿法刻蚀清洗设备
槽式湿法刻蚀清洗设备
Wet Bench
单片湿法刻蚀清洗设备
Single Wafer Cleaner
| 设备型号： | DF-3000B |
| 设备类型： | Cassette Less/Type |
| 晶圆尺寸： | 300mm |
| 设备配置： | 8~12 个槽体, 2~6 个Robot（可定制） |
| 可搭载先进超声波, 兆声波 | |
| 槽体过温保护, 各Module配置漏液传感器 | |
| 多级Wafer保护措施 | |
| 支持化学液CCSS / LCSS | |
| 自动换酸, 自动补液、配液( 可兼容多种浓度配比) | |
| 先进Marangoni干燥 | |
| 加热控制, 浓度控制, 流量控制, 压力控制 | |
| 化学液/水, 直排&回收 | |
| 可靠性能： | Uptime≥98% Breakage≤1/100000 |
| MTBF≥650 hours MTTR≤3 hours | |
| 软件控制： | PC+PLC+GUI 控制, 支持Schedule、EAP、FDC等功能 |
| 设备型号： | FY-3000S |
| 晶圆尺寸： | 300mm |
| 腔 体： | 4~24 个腔体（可定制） |
| Vacuum or Grip方式 | |
| 4~5 个Dispenser，2~3种化学液 | |
| 排风分离：酸，碱，有机化学液分开排放 | |
| E F E M ： | 2 or 4 SMIF/FOUP, 1 Index robot, 1or 2WTR |
| 化学药液： | 支持CCSS / LCSS Supply |
| 化学液泵循环 | |
| 加热控制, 浓度控制, 流量控制, 压力控制 | |
| 化学液/水, 直排&回收 | |
| 配 置： | 高清摄像头、离子发生器、臭氧发生器（可选） |
| 可靠性能： | Uptime≥98% Breakage≤1/100000 |
| MTBF≥500 hours MTTR≤3 hours | |
| 软件控制： | PC+PLC+GUI 控制, 支持EAP、FDC等功能 |
